微電子、生物醫藥、能源等多個領域的高速發展,對更高質量的納米級聚合物薄膜的需求與日俱增。然而,目前的制備方法還存在一些局限性,難以完全滿足市場需求。為了克服這些挑戰,公司開發了一種先進的沉積技術——分子層沉積(MLD)。

什么是分子層沉積(MLD)?
分子層沉積是一種在納米尺度上沉積有機聚合物薄膜的技術。它利用連續、自限制的表面反應,每個沉積周期形成一層分子厚度的薄膜。通過控制沉積周期數,可以精確控制薄膜的厚度和成分。

MLD技術的優勢
與其他薄膜沉積方法相比,MLD具有許多優點:

1. 卓越的厚度一致性:自限生長特性確保了即使在高深寬比基底上也能實現優秀的厚度一致性。

2. 化學組成可調:通過選擇特定的前驅體,利用官能團之間的相互反應,可以實現化學成分的精細調控。

3. 適用于多種材料:MLD可用于沉積各種高性能的有機薄膜,如聚酰亞胺等。

MLD技術的發展與創新
隨著原子層沉積(ALD)技術的不斷進步,MLD也衍生出多種新型沉積方法,如熱分子層沉積(T-MLD)、光活化分子層沉積等。這些創新手段為MLD技術的應用拓展提供了新的思路。

未來展望
隨著MLD技術的不斷優化和完善,它在OLED、鋰電池、太陽能電池、低介電層等領域將發揮重要作用。公司將持續投入研發,為客戶提供更高性能的納米薄膜解決方案,助力各行業的創新發展。